Некоторые преимущества вакуумных микросхем перед полупроводниковыми:

• Устойчивость к радиации. 15 Вакуумные микросхемы предназначены для эксплуатации в условиях повышенной радиации, так как металлические источники электронов отличаются повышенной радиационной стойкостью. 5
• Работа при высоких температурах. 5 Вакуумные микросхемы могут работать при более высоких температурах, так как автоэлектронная эмиссия не зависит от температуры. 5
• Низкий уровень шума и искажений. 23 Вакуум производит меньше шума и искажений, чем твёрдотельные материалы. 23

Некоторые недостатки вакуумных микросхем:

• Ограниченный срок службы. 5 Это связано с деградацией острийных катодов при их бомбардировке положительными ионами остаточного газа, имеющегося в корпусе вакуумной микросхемы. 5
• Потребность в сверхвысоком рабочем вакууме. 1 Это требует сложной электронно-лучевой технологии и затрудняет изготовление матриц больших размеров. 1
• Потребность в нагревательном элементе. 24 Для производства электронов вакуумным трубкам требуется нагревательный элемент, из-за чего они потребляют много энергии и быстро перегорают. 4