В чем заключаются основные отличия между оптической и электронной литографией?

Некоторые основные отличия между оптической и электронной литографией:

Источник излучения:

• Оптическая литография (фотолитография) использует свет (видимый или ультрафиолетовый) для засветки резиста. {9-host}
• Электронная литография (электронно-лучевая литография) применяет поток электронов. ru.ruwiki.ru ru.wikipedia.org

Длина волны излучения:

• Оптическая литография обычно использует излучение с длиной волны 0,36–0,45 мкм. www.hse.ru
• Электронная литография позволяет получать структуры с разрешением менее 1 нм благодаря более короткой длине волны электронов (менее 0,1 нм). ru.ruwiki.ru www.hse.ru

Применение:

• Оптическая литография используется для группового производства микросхем на основе созданного шаблона. {7-host}
• Электронная литография применяется для производства фотошаблонов, а также для создания единичных экземпляров электронных компонентов с нанометровым разрешением в промышленности и научных исследованиях. ru.ruwiki.ru ru.wikipedia.org

Производительность:

• Оптическая литография отличается простотой в исполнении и высокой производительностью. {9-host}
• Электронная литография имеет низкую производительность из-за последовательного характера экспонирования. digitalocean.ru

Стоимость оборудования: установки оптической литографии дороже и сложнее, чем установки электронной литографии. {9-host}