В чём преимущества и недостатки использования DUV-литографии при производстве полупроводниковых чипов?

Преимущества использования DUV-литографии при производстве полупроводниковых чипов:

• Широкое применение. digitalocean.ru DUV-литография — наиболее широко используемый метод для изготовления интегральных схем с технологическими нормами до 7 нанометров. digitalocean.ru
• Возможность достижения определённых уровней детализации. russianelectronics.ru По расчётам, с помощью DUV-литографии можно достигнуть уровня 3 нанометров. russianelectronics.ru

Некоторые недостатки:

• Износ оборудования. russianelectronics.ru Более высокая мощность источника ускоряет износ проекционной оптики и фотошаблонов. russianelectronics.ru Оптика — один из самых дорогих компонентов сканера, и её замена после короткого срока службы требует больших затрат. russianelectronics.ru
• Необходимость защиты фотомаски. 3dnews.ru Нужно защищать дорогостоящую маску от осаждения пылинок, которые искажают рисунок линий на шаблоне и могут привести к порче будущего чипа прямо в процессе изготовления. 3dnews.ru