В чем преимущества и недостатки ионно-плазменного травления перед химическим?

Преимущества ионно-плазменного травления перед химическим:

• Высокая эффективность очистки поверхности от различных загрязнений и адсорбированных газов. 6 Это делает ионно-плазменное травление незаменимым для предварительной очистки подложек перед нанесением функциональных слоёв. 6
• Возможность наносить насечки и делать пазы с точностью до 10 нм. 37 Поэтому метод активно используется в микроэлектронике. 37

Недостатки ионно-плазменного травления:

• Низкая селективность при одновременном травлении нескольких материалов. 5 Большинство из них имеет близкие по значению коэффициенты распыления, а следовательно, и скорость травления. 5
• Значительные радиационные и тепловые воздействия, вызывающие разрушения контактных масок, деградацию электрофизических параметров структур и необходимость охлаждения образцов при травлении. 28