В чем особенности использования 14-нанометрового техпроцесса в процессорах Intel?

Некоторые особенности использования 14-нанометрового техпроцесса в процессорах Intel:

• Высокая плотность транзисторов. thg.ru 22century.ru Расстояние между диэлектрическими рёбрами уменьшилось с 60 до 42 нм, между затворами — с 90 до 70 нм, между соединениями — с 80 до 52 нм. 3dnews.ru 22century.ru Это позволяет помещать на кристалл той же площади больше транзисторов. 3dnews.ru 22century.ru
• Повышение мощности управляющего тока и производительности транзистора. 3dnews.ru 22century.ru Увеличение высоты барьеров с 34 до 42 нм. 3dnews.ru 22century.ru
• Сокращение площади ячейки памяти SRAM. 3dnews.ru 22century.ru Если в рамках 22-нм техпроцесса площадь ячейки составляла примерно 0,108 мкм², то 14-нм техпроцесс позволил сократить это значение почти в два раза — до 0,059 мкм². 3dnews.ru 22century.ru
• Снижение токов утечки. 3dnews.ru Это позволяет в рамках одного и того же техпроцесса производить разные чипы: от мобильных (с низким энергопотреблением) до серверных (с высокой производительностью). 3dnews.ru
• Оптимизация энергопотребления. www.ferra.ru Для Intel Core M была создана отдельная версия 14-нм чипа Broadwell с урезанным на 10% напряжением, уменьшенным на 15% ёмкостным сопротивлением и улучшенным показателем потери потребляемой мощности. www.ferra.ru