Контроль скорости травления в микроэлектронике важен по нескольким причинам:
- Обеспечение качества обработки. inner.su Точный контроль параметров процесса позволяет достичь требуемой скорости травления, селективности и качества профиля структур. inner.su
- Предотвращение перетравливания подложки. inner.su Современные установки оснащены системами оптического мониторинга окончания процесса, которые позволяют отслеживать изменение интенсивности характеристических линий плазмы и контролировать глубину травления. inner.su
- Снижение риска образования дефектов. a-contract.ru Например, кислотных ловушек, которые снижают производительность печатной платы. a-contract.ru Такие ловушки возникают, когда дорожки пересекаются под острым углом, и в месте пересечения накапливается раствор. a-contract.ru Он разрушает медные дорожки и другие материалы и части печатной платы, что вызывает обрывы, короткие замыкания и прочие дефекты соединений. a-contract.ru
На скорость травления в микроэлектронике влияют такие параметры, как мощность высокочастотного разряда, давление газа, температура подложки, состав газовой смеси и геометрия реактора. inner.su