Рентгеновская литография считается передовой технологией по нескольким причинам:
- Высокая производительность. portal.tpu.ru Это связано с высокой яркостью современных источников и возможностью параллельного переноса изображения шаблона на резист. portal.tpu.ru
- Лучшее разрешение. portal.tpu.ru Оно достигается благодаря малой длине волны рентгеновского излучения и незначительному числу вторичных электронов, которые вызывают размытие краёв изображения. portal.tpu.ru
- Возможность трёхмерной литографии. portal.tpu.ru Это возможно, так как рентгеновское излучение обладает большой глубиной проникновения и относительно слабо рассеивается в материале пластины. portal.tpu.ru
- Большая радиационная стойкость шаблона. portal.tpu.ru С одного шаблона можно получить десятки тысяч отображений. portal.tpu.ru Это связано с меньшими лучевыми нагрузками на шаблон, чем при электронном или ионном облучении. portal.tpu.ru
- Малое влияние материала подложки и её топографии на разрешающую способность. ru.wikipedia.org
Рентгеновская литография применяется на передовых мировых фабриках, таких как TSMC (Тайвань), Samsung (Корея) и Intel (США), при изготовлении критических слоёв, которые определяют технические характеристики чипа. www.gazeta.ru