Литография в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне (EUV) используется только в производстве передовых полупроводниковых устройств, потому что позволяет создавать более мелкие и сложные конструкции чипов. 2

В EUV-литографии используется гораздо более короткая длина волны света по сравнению с традиционной оптической литографией, что даёт возможность печатать на кремниевой пластине более мелкие детали. 1 Это помогает производителям создавать процессоры с более высокой плотностью транзисторов и более точной геометрией, что приводит к повышению производительности и снижению энергопотребления. 1

С помощью EUV-литографии можно производить чипы с меньшими узлами — часто в диапазоне 5 нм или 3 нм, что открывает путь для ещё более мощных и компактных электронных устройств. 2