Фотолитография считается важнейшим этапом в производстве полупроводников, потому что она позволяет получать любой рисунок на поверхности кремниевой или германиевой пластин для производства локальной диффузии, избирательного травления и соединения отдельных элементов в твёрдых схемах. 2

Задача фотолитографии — обеспечить качественное формирование этих элементов на всём поле кремниевой пластины с соблюдением допускаемых отклонений размеров элементов и их расположения относительно нижележащих структур, сформированных в предыдущем цикле. 3

Кроме того, фотолитография даёт возможность уменьшить размеры электронных компонентов, что способствует прогрессу и созданию более мощных и полезных устройств. 1

Таким образом, этот процесс играет ключевую роль в совершенствовании современных разработок, позволяя создавать более простые, быстрые и эффективные электронные устройства. 1