EUV-литография оказывает значительное влияние на развитие технологий микроэлектроники, в частности, благодаря следующим факторам:
- Создание структур с нанометровыми размерами. digitalocean.ru EUV-литография позволяет производить микрочипы по техпроцессам 5–4–3 нанометра, что критически важно для развития современных микропроцессоров, памяти и других полупроводниковых устройств. dzen.ru digitalocean.ru
- Уменьшение размеров транзисторов и увеличение плотности размещения элементов на кристалле. digitalocean.ru Это способствует развитию передовых технологий, включая искусственный интеллект, интернет вещей и многие другие. digitalocean.ru
- Расширение производственной базы. www.electronics.ru Увеличение спроса на полупроводниковые приборы ведёт к расширению производственной базы и увеличению закупок оборудования для производства с использованием EUV-литографии. www.electronics.ru
В 2025 году ожидается запуск тестового производства EUV-литографов в Китае, что может стать значительным шагом к снижению зависимости страны от западных технологий. www.cnews.ru