EUV-литография оказывает значительное влияние на развитие технологий микроэлектроники, в частности, благодаря следующим факторам:

• Создание структур с нанометровыми размерами. 4 EUV-литография позволяет производить микрочипы по техпроцессам 5–4–3 нанометра, что критически важно для развития современных микропроцессоров, памяти и других полупроводниковых устройств. 24
• Уменьшение размеров транзисторов и увеличение плотности размещения элементов на кристалле. 4 Это способствует развитию передовых технологий, включая искусственный интеллект, интернет вещей и многие другие. 4
• Расширение производственной базы. 5 Увеличение спроса на полупроводниковые приборы ведёт к расширению производственной базы и увеличению закупок оборудования для производства с использованием EUV-литографии. 5

В 2025 году ожидается запуск тестового производства EUV-литографов в Китае, что может стать значительным шагом к снижению зависимости страны от западных технологий. 1