EUV-литография оказывает значительное влияние на развитие технологий микроэлектроники, в частности, благодаря следующим факторам:
  - Создание структур с нанометровыми размерами.                                                                          digitalocean.ru                       EUV-литография позволяет производить микрочипы по техпроцессам 5–4–3 нанометра, что критически важно для развития современных микропроцессоров, памяти и других полупроводниковых устройств.                                                                          dzen.ru                                                                                               digitalocean.ru                      
  - Уменьшение размеров транзисторов и увеличение плотности размещения элементов на кристалле.                                                                          digitalocean.ru                       Это способствует развитию передовых технологий, включая искусственный интеллект, интернет вещей и многие другие.                                                                          digitalocean.ru                      
  - Расширение производственной базы.                                                                          www.electronics.ru                       Увеличение спроса на полупроводниковые приборы ведёт к расширению производственной базы и увеличению закупок оборудования для производства с использованием EUV-литографии.                                                                          www.electronics.ru                      
  
 В 2025 году ожидается запуск тестового производства EUV-литографов в Китае, что может стать значительным шагом к снижению зависимости страны от западных технологий.                                                                          www.cnews.ru