Какие виды КПР применяются в фотолитографии?

В фотолитографии применяются позитивные и негативные фоторезисты. open.bmstu.ru

В негативных фоторезистах облученные участки благодаря фотополимеризации становятся стойкими к воздействию проявителя и в отличие от необлучённых участков остаются на подложке при проявлении. open.bmstu.ru

В позитивных фоторезистах облучённые участки за счёт фотодеструкции растворяются (удаляются) в проявителях, а необлучённые остаются и образуют фоторезистивную маску. open.bmstu.ru

Также в качестве покрытий, создающих рисунок фотошаблонов, используют тонкие плёнки металлов (обычно хрома), окисных плёнок (окиси хрома, окиси железа), нитрида кремния. www.hse.ru

В зависимости от материала плёночного покрытия различают фотошаблоны на основе фотографической эмульсии (эмульсионные фотошаблоны), металлической плёнки (металлические фотошаблоны), а также ряда других материалов, например окиси железа (цветные фотошаблоны). phys.vsu.ru