Некоторые технологии, которые ASML использует в производстве чипов:

• DUV-литография (Deep Ultraviolet Lithography). 1 В этом процессе используется глубокий ультрафиолет для создания сложных узоров на кремниевых пластинах. 1 Позволяет создавать транзисторы размером до нескольких десятков нанометров. 1
• EUV-литография (Extreme Ultraviolet Lithography). 14 Технология, разработанная ASML, позволяет достичь миниатюризации чипов, необходимой для новых поколений микропроцессоров и микросхем памяти. 1 В процессе EUV используется излучение с длиной волны 13,5 нанометров, что даёт возможность создания более плотных узоров. 1

Также для поддержания высокой точности печати на микросхемах ASML использует сложные оптические системы, содержащие многоуровневые зеркала и системы очистки. 1