Некоторые технологии, которые ASML использует в производстве чипов:
- DUV-литография (Deep Ultraviolet Lithography). dzen.ru В этом процессе используется глубокий ультрафиолет для создания сложных узоров на кремниевых пластинах. dzen.ru Позволяет создавать транзисторы размером до нескольких десятков нанометров. dzen.ru
- EUV-литография (Extreme Ultraviolet Lithography). dzen.ru vc.ru Технология, разработанная ASML, позволяет достичь миниатюризации чипов, необходимой для новых поколений микропроцессоров и микросхем памяти. dzen.ru В процессе EUV используется излучение с длиной волны 13,5 нанометров, что даёт возможность создания более плотных узоров. dzen.ru
Также для поддержания высокой точности печати на микросхемах ASML использует сложные оптические системы, содержащие многоуровневые зеркала и системы очистки. dzen.ru