Какие существуют современные методы получения монокристаллических пленок полупроводников?

Некоторые современные методы получения монокристаллических плёнок полупроводников:

• Молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ). sibsauktf.ru Тонкие монокристаллические слои формируются на нагретой монокристаллической подложке за счёт реакций между молекулярными или атомными пучками и поверхностью подложки. sibsauktf.ru
• Рост из газовой фазы с использованием металлоорганических соединений (РГФ МОС). sibsauktf.ru В этом методе используется процесс эпитаксиального роста материалов на нагретой подложке при термическом разложении металлорганических соединений. sibsauktf.ru
• Жидкофазная эпитаксия. sibsauktf.ru Монокристаллические слои получают из контактирующих с подложкой пересыщенных растворов. sibsauktf.ru С понижением температуры избыточное количество полупроводника осаждается из раствора на подложку. sibsauktf.ru
• Газотранспортные химические методы. www.ras.ru Являются основой массовой технологии в микроэлектронике. www.ras.ru Используются либо химические реакции диспропорционирования, протекающие в сторону синтеза в области высоких температур и разложения при более низких температурах, либо реакции пиролиза сложных соединений с выделением нужного полупроводникового материала. www.ras.ru
• Метод лазерного испарения. patents.google.com Для нанесения компонентов полупроводника используется метод лазерного испарения из мишени стехиометрического состава на монокристаллическую диэлектрическую подложку. patents.google.com Формирование монокристаллического слоя полупроводника происходит во время нанесения материала. patents.google.com