Какие существуют современные методы получения монокристаллических пленок полупроводников?

Некоторые современные методы получения монокристаллических плёнок полупроводников:

• Молекулярно-лучевая эпитаксия (МЛЭ). 1 Тонкие монокристаллические слои формируются на нагретой монокристаллической подложке за счёт реакций между молекулярными или атомными пучками и поверхностью подложки. 1
• Рост из газовой фазы с использованием металлоорганических соединений (РГФ МОС). 1 В этом методе используется процесс эпитаксиального роста материалов на нагретой подложке при термическом разложении металлорганических соединений. 1
• Жидкофазная эпитаксия. 1 Монокристаллические слои получают из контактирующих с подложкой пересыщенных растворов. 1 С понижением температуры избыточное количество полупроводника осаждается из раствора на подложку. 1
• Газотранспортные химические методы. 2 Являются основой массовой технологии в микроэлектронике. 2 Используются либо химические реакции диспропорционирования, протекающие в сторону синтеза в области высоких температур и разложения при более низких температурах, либо реакции пиролиза сложных соединений с выделением нужного полупроводникового материала. 2
• Метод лазерного испарения. 4 Для нанесения компонентов полупроводника используется метод лазерного испарения из мишени стехиометрического состава на монокристаллическую диэлектрическую подложку. 4 Формирование монокристаллического слоя полупроводника происходит во время нанесения материала. 4