Какие преимущества дает использование литографии High-NA EUV при производстве микропроцессоров?

Некоторые преимущества использования литографии High-NA EUV при производстве микропроцессоров:

• Улучшение функциональности, производительности и энергоэффективности чипов. www.asml.com Благодаря разрешению 8 нм производители могут упаковывать больше транзисторов в один чип. www.asml.com Меньшие транзисторы более энергоэффективны. www.asml.com
• Возможность создавать сверхтонкие структуры за одну экспозицию. overclockers.ru Это ускоряет процесс производства полупроводников и повышает их эффективность. overclockers.ru
• Упрощение производственных процессов. dzen.ru www.asml.com Это делает производство продвинутых микрочипов более экономически выгодным. dzen.ru
• Перспективы развития. dzen.ru Технология позволяет не только соблюдать закон Мура, но и расширять его, предоставляя возможность создавать ещё более мощные и технологически продвинутые устройства. dzen.ru

Особенно важно использование High-NA EUV для развития таких областей, как искусственный интеллект, квантовые вычисления и 5G-технологии, требующих всё более мощных и энергоэффективных чипов. overclockers.ru