Некоторые достижения в технологии фотолитографии за последние десятилетия:
Развитие технологии глубокого ультрафиолета (DUV). tesstech.ru В современных установках источником света служит эксимерный лазер с длиной волны 365, 248, 193 нм. tesstech.ru Эта технология позволяет достигать техпроцесса с точностью 22 нм. tesstech.ru
Создание технологии экстремального ультрафиолета (EUV). tesstech.ru topwar.ru Эта технология позволила достигнуть техпроцесса с точностью 7 нм. tesstech.ru Для EUV вместо источника света используют плазму, получаемую путём распыления олова в вакууме с последующей обработкой лазером с длиной волны 13,5 нм. tesstech.ru
Разработка безмасочной рентгеновской нанолитографии. topwar.ru Эта технология не требует создания фотошаблонов и позволяет легко вносить модификации при производстве конечной продукции. tesstech.ru Она может достигать техпроцесса менее 10 нм. tesstech.ru
Прогресс в области многолучевых записывающих машин. dzen.ru В таких системах для ускорения производства и повышения качества используются тысячи параллельных электронных лучей. dzen.ru
Примеры полезных ответов Поиска с Алисой на вопросы из разных сфер. Вопросы сгенерированы нейросетью YandexGPT для актуальных тем, которые определяются на базе обобщённых запросов к Поиску с Алисой.