Некоторые достижения в технологии фотолитографии за последние десятилетия:

• Развитие технологии глубокого ультрафиолета (DUV). 1 В современных установках источником света служит эксимерный лазер с длиной волны 365, 248, 193 нм. 1 Эта технология позволяет достигать техпроцесса с точностью 22 нм. 1
• Создание технологии экстремального ультрафиолета (EUV). 12 Эта технология позволила достигнуть техпроцесса с точностью 7 нм. 1 Для EUV вместо источника света используют плазму, получаемую путём распыления олова в вакууме с последующей обработкой лазером с длиной волны 13,5 нм. 1
• Разработка безмасочной рентгеновской нанолитографии. 2 Эта технология не требует создания фотошаблонов и позволяет легко вносить модификации при производстве конечной продукции. 1 Она может достигать техпроцесса менее 10 нм. 1
• Прогресс в области многолучевых записывающих машин. 5 В таких системах для ускорения производства и повышения качества используются тысячи параллельных электронных лучей. 5