Ионно-плазменное травление в современной промышленности работает в вакуумной камере, где плазменный разряд создаётся с использованием комбинации реактивных газов и радиочастотной энергии. 1
Процесс включает в себя следующие этапы: 1
- Генерация плазмы. 1 В камеру вводится газ низкого давления, например, кислород, фтор или хлор. 1
- Ускорение ионов. 1 Радиочастотное электрическое поле ионизирует газ, создавая плазму с реактивными ионами и свободными радикалами. 1
- Травление материалов. 1 Ускоренные ионы вступают в химическую реакцию с поверхностью подложки, удаляя целевой материал. 1
Некоторые преимущества плазменного травления:
- Универсальность. 3 Может использоваться для удаления различных типов материалов, включая металлы, пластмассы, стекло и керамику. 3
- Высокая точность. 3 Обеспечивает контроль при удалении материала, что позволяет достичь требуемых размеров и форм. 3
- Минимальное воздействие на окружающую среду. 3 Не использует химические растворы или абразивные материалы, что делает его более экологически чистым по сравнению с другими методами удаления материала. 3
- Высокая скорость и эффективность. 3 Обладает высокой скоростью удаления материала и может быть применено для обработки больших поверхностей за короткое время. 3
- Возможность обработки сложных форм. 3 Может использоваться для обработки поверхностей со сложной геометрией, такой как закругления, углы и канавки. 3
- Минимальные деформации материала. 3 Обеспечивает минимальные деформации материала, что особенно важно при работе с тонкими и чувствительными поверхностями. 3
- Возможность контроля глубины удаления материала. 3 Позволяет точно контролировать глубину удаления материала, что полезно при создании определённых профилей или отверстий. 3
Ионно-плазменное травление используется в электронике, медицинской промышленности, авиационной и космической промышленности, пищевой промышленности и автомобильной промышленности. 3