Как производят алмазные покрытия методом химического осаждения из газовой фазы?

Процесс производства алмазных покрытий методом химического осаждения из газовой фазы (CVD) включает в себя несколько этапов: ru.kindle-tech.com

1. Подготовка подложки. ru.wikipedia.org Включает в себя поиск подходящего материала, правильную ориентацию его кристаллографической плоскости, очистку, часто шлифовку алмазными порошками, подбор оптимальной температуры подложки (около 800 °C). ru.wikipedia.org
2. Заполнение рабочей камеры смесью газов. ru.wikipedia.org Газовая атмосфера содержит источник углерода (обычно метан) и водород, часто в соотношении 1 к 99. ru.wikipedia.org Водород необходим, так как селективно переводит углерод в неалмазном состоянии в газообразное соединение. ru.wikipedia.org
3. Возбуждение газовой смеси. ru.wikipedia.org Газовая смесь в рабочей камере ионизируется для образования химически активных радикалов при помощи микроволнового излучения, электрической дуги, лазера или каким-либо другим способом. ru.wikipedia.org
4. Осаждение активированных радикалов углерода на подложку. ru.kindle-tech.com Происходит зарождение, а затем рост алмазной плёнки. ru.kindle-tech.com
5. Десорбция. ru.kindle-tech.com Газообразные продукты реакции десорбируются с поверхности и уносятся прочь. ru.kindle-tech.com

Отличительной особенностью CVD-метода является послойное нанесение покрытий и плёнок, которые равномерно покрывают всю доступную поверхность подложки. bigenc.ru