Фотолитография влияет на процесс производства микросхем следующим образом: она обеспечивает качественное формирование элементов на всём поле кремниевой пластины с соблюдением допускаемых отклонений размеров элементов и их расположения относительно нижележащих структур, сформированных в предыдущем цикле. 2

В процессе обработки на кремниевую подложку наносится слой светочувствительного материала (фоторезиста) в виде полимерной плёнки, которая облучается через маску (фотошаблон) на фотолитографе. 1 В результате на пластине остаётся рельефный рисунок: на участках, прошедших прямое облучение, формируются углубления, а элементы, прикрытые светочувствительным материалом, остаются выпуклыми. 1

За счёт этого фотолитография составляет порядка 60–70% от общей стоимости выпуска электронного компонента. 1