Как эпитаксия используется в современной полупроводниковой промышленности?

Эпитаксия используется в современной полупроводниковой промышленности для получения тонких рабочих слоёв однородного полупроводника на сравнительно толстой подложке, играющей роль несущей конструкции. studizba.com

Некоторые области применения эпитаксии:

• Производство транзисторов. en.wikipedia.org Эпитаксия важна для сложных полупроводников, например арсенида галлия. en.wikipedia.org
• Изготовление интегрированных кристаллических слоёв. en.wikipedia.org Технология часто используется для выращивания кристаллических плёнок из материалов, для которых кристаллы невозможно получить иным способом. en.wikipedia.org
• Создание плёнок. en.wikipedia.org Например, с помощью центробежной жидкофазной эпитаксии получают тонкие слои кремния, германия и арсенида галлия. en.wikipedia.org
• Изготовление тонкоплёночных солнечных элементов. en.wikipedia.org Такой процесс использовался для создания кремния для тонкоплёночных солнечных элементов и фотоприёмников дальнего инфракрасного диапазона. en.wikipedia.org

Эпитаксия применяется в таких сферах, как производство плоских дисплеев и электроники, оборудования для научных приспособлений, обработка солнечной энергии и другие. amevac.ru