Как эпитаксия используется в современной полупроводниковой промышленности?

Эпитаксия используется в современной полупроводниковой промышленности для получения тонких рабочих слоёв однородного полупроводника на сравнительно толстой подложке, играющей роль несущей конструкции. 4

Некоторые области применения эпитаксии:

• Производство транзисторов. 3 Эпитаксия важна для сложных полупроводников, например арсенида галлия. 3
• Изготовление интегрированных кристаллических слоёв. 3 Технология часто используется для выращивания кристаллических плёнок из материалов, для которых кристаллы невозможно получить иным способом. 3
• Создание плёнок. 3 Например, с помощью центробежной жидкофазной эпитаксии получают тонкие слои кремния, германия и арсенида галлия. 3
• Изготовление тонкоплёночных солнечных элементов. 3 Такой процесс использовался для создания кремния для тонкоплёночных солнечных элементов и фотоприёмников дальнего инфракрасного диапазона. 3

Эпитаксия применяется в таких сферах, как производство плоских дисплеев и электроники, оборудования для научных приспособлений, обработка солнечной энергии и другие. 1