В чем разница между физическим и химическим осаждением кристаллов?

Разница между физическим и химическим осаждением кристаллов заключается в процессе образования осадка. ru.wikipedia.org ru.ruwiki.ru

Физическое осаждение происходит, когда образование осадка вызвано физическими причинами. ru.wikipedia.org Каждое вещество имеет определённую растворимость, которая при изменении температуры, насыщенности или давления может меняться. ru.wikipedia.org Если растворимость падает или снижается концентрация растворителя, то в результате физического процесса образуется перенасыщенный раствор и из него вещество выпадает в виде кристаллического осадка. ru.wikipedia.org

Химическое осаждение происходит, когда образование осадка вызвано химической реакцией. ru.wikipedia.org В результате неё образуется нерастворимое или малорастворимое соединение, для которого раствор перенасыщен и оно выделяется в виде твёрдых частиц, взвешенных в растворе. ru.wikipedia.org

Таким образом, при физическом осаждении нет химической реакции, а при химическом — она является частью процесса образования осадка.