Основные преимущества фотолитографии перед другими методами литографии:

• Универсальность, массовость, технологичность и возможность автоматизации. 3 С помощью фотолитографии на одной подложке можно получить большое число элементов будущих приборов и микросхем, что позволяет проводить групповую обработку подложек по заранее выбранному технологическому маршруту. 3
• Высокое разрешение. 15 Наименьшие размеры деталей рисунка достигают 100 нм, а применение специальных методов (иммерсионная литография) теоретически позволяет получить разрешение до 11 нм. 1

Недостатки фотолитографии:

• Физическое ограничение минимального размера элемента. 4 Он определяется длиной волны используемого света. 4 В результате формирование рисунка на поверхности приобретает большие сложности, когда его размер оказывается меньше длины волны экспонирующего света. 4
• Утолщение слоя фоторезиста по краям детали и на внутренней границе плёнки. 5 Оно может составлять 2–3 толщины основного слоя. 5