Почему фосфид цинка применяется в производстве фотоэлектрических элементов?

Фосфид цинка применяется в производстве фотоэлектрических элементов по нескольким причинам:

• Сильное оптическое поглощение. en.wikipedia.org ewikiuk.top Фосфид цинка обладает почти идеальной запрещённой зоной (1,5 эВ), что делает его подходящим материалом для тонкоплёночных фотоэлектрических систем. en.wikipedia.org ewikiuk.top
• Низкая стоимость извлечения материала. en.wikipedia.org И цинк, и фосфор в изобилии содержатся в земной коре, что снижает затраты на извлечение материала по сравнению с другими тонкоплёночными фотоэлектрическими элементами. en.wikipedia.org
• Нетоксичность. en.wikipedia.org В отличие от других распространённых коммерческих тонкоплёночных фотоэлектрических элементов, таких как теллурид кадмия, и цинк, и фосфор нетоксичны. en.wikipedia.org