Некоторые преимущества эксимерных источников света в литографии:

• высокая эффективность в осветительных системах литографических степперов и сканеров; 4
• возможность получения минимальных размеров с помощью фотолитографии (длина волны ультрафиолетового излучения — 0,1–0,3 мкм). 4

Некоторые недостатки эксимерных источников света в литографии:

• высокая стоимость; 4
• необходимость в тщательно спроектированной и изготовленной УФ-оптике; 4
• при увеличении мощности облучения обостряется проблема нагрева, поэтому для шаблонов требуется материал с низким тепловым расширением. 3