Некоторые преимущества использования SXR-источников в литографии:
Высокая производительность. portal.tpu.ru Это связано с высокой яркостью современных источников и процессом параллельного переноса изображения шаблона на резист. portal.tpu.ru
Лучшее разрешение. portal.tpu.ru Оно достигается благодаря малой длине волны рентгеновского излучения и незначительному числу вторичных электронов, которые вызывают размытие краёв изображения. portal.tpu.ru
Возможность трёхмерной литографии. portal.tpu.ru Это возможно, так как рентгеновское излучение обладает большой глубиной проникновения и относительно слабо рассеивается в материале пластины. portal.tpu.ru
Большая радиационная стойкость шаблона. portal.tpu.ru Это связано с меньшими лучевыми нагрузками на шаблон, чем при электронном или ионном облучении. portal.tpu.ru
Малая чувствительность к загрязнениям шаблона и подложки. phys-el.ru Это происходит, потому что рентгеновские лучи практически не поглощаются загрязнениями, состоящими из компонентов с малым атомным номером. portal.tpu.ru
Примеры полезных ответов Поиска с Алисой на вопросы из разных сфер. Вопросы сгенерированы нейросетью YandexGPT для актуальных тем, которые определяются на базе обобщённых запросов к Поиску с Алисой.