Какие ограничения существуют при использовании экстремальной УФ-литографии?

Некоторые ограничения при использовании экстремальной УФ-литографии:

• Необходимость в вакууме. ru.wikipedia.org libeldoc.bsuir.by Излучение с малой длиной волны легко рассеивается, поэтому процесс должен осуществляться в вакууме. libeldoc.bsuir.by
• Использование специальных отражающих зеркальных линз. habr.com Они должны быть гладкими, шероховатость линзы должна быть меньше 0,5 нанометра. habr.com
• Уязвимость зеркала, отвечающего за сбор света. ru.wikipedia.org Оно подвергается прямому воздействию плазмы и уязвимо для повреждения высокоэнергетическими ионами и другим мусором, например каплями олова. ru.wikipedia.org
• Неравномерные границы печати. libeldoc.bsuir.by Использование волн с длиной 13,5 нм приводит к повышению энергии фотонов в 14 раз по сравнению с 400 нм волнами классической литографии. libeldoc.bsuir.by Управлять такими фотонами становится намного сложнее, поэтому только 40% фотонов в точности придерживаются заданной траектории, а 60% отклоняются в стороны и формируют шумы. libeldoc.bsuir.by