Некоторые ограничения при использовании экстремальной УФ-литографии:

• Необходимость в вакууме. 13 Излучение с малой длиной волны легко рассеивается, поэтому процесс должен осуществляться в вакууме. 3
• Использование специальных отражающих зеркальных линз. 2 Они должны быть гладкими, шероховатость линзы должна быть меньше 0,5 нанометра. 2
• Уязвимость зеркала, отвечающего за сбор света. 1 Оно подвергается прямому воздействию плазмы и уязвимо для повреждения высокоэнергетическими ионами и другим мусором, например каплями олова. 1
• Неравномерные границы печати. 3 Использование волн с длиной 13,5 нм приводит к повышению энергии фотонов в 14 раз по сравнению с 400 нм волнами классической литографии. 3 Управлять такими фотонами становится намного сложнее, поэтому только 40% фотонов в точности придерживаются заданной траектории, а 60% отклоняются в стороны и формируют шумы. 3