Для создания фоторезистов используют светочувствительные и плёнкообразующие компоненты, растворители и некоторые добавки. www.bsuir.by
В зависимости от типа фоторезиста (позитивного или негативного) в состав входят разные материалы: www.bsuir.by
- Позитивные фоторезисты. www.bsuir.by Большинство из них получают на основе нафтохинондиазида (НХД) — мономера, который образует в результате фотолиза соединения, растворимые в щелочи. www.bsuir.by В качестве плёнкообразующих смол используют новолачные или резольные фенолформальдегидные смолы. www.bsuir.by
- Негативные фоторезисты. www.bsuir.by Для них характерны две группы фотохимических реакций: www.bsuir.by
- фотополимеризация с образованием нерастворимых участков (на основе коричной кислоты и поливинилового спирта); www.bsuir.by
- сшивка линейных полимеров радикалами, которые образуются при фотолизе светочувствительных соединений (на основе каучука с добавлением светочувствительных веществ — бисазидов). www.bsuir.by
Также существуют жидкие фоторезисты — это раствор полимера и светочувствительного соединения в органическом растворителе. frast.ru
Существуют и фоторезисты с химическим усилением скрытого изображения, которые состоят из светочувствительных ониевых солей и эфиров нафтоловых резольных смол. ru.wikipedia.org