Какие материалы используются для производства полупроводникового слоя в современных фоторезисторах?

Для производства полупроводникового слоя в современных фоторезисторах используют различные материалы, в зависимости от задачи и диапазона излучения. 13

Для фиксации видимого света применяют, например, селенид и сульфид кадмия. 13

Для регистрации инфракрасного излучения используют такие материалы, как:

• Германий (чистый или легированный примесями Au, Cu или Zn). 1
• Кремний. 3
• Сульфид свинца и другие химические соединения на его основе. 3
• Антимонид или арсенид индия. 3
• Прочие химические соединения, чувствительные к инфракрасным лучам. 3

Также для изготовления фоторезисторов используют соединения на основе свинца (PbS — сульфид свинца, PbSe — селенид свинца, PbTe — теллурид свинца) и соединения на основе индия (InAs — арсенид индия, InSb — антимонид индия). 2