EUV-литография (экстремальная ультрафиолетовая литография) использует свет с длиной волны около 13 нанометров. habr.com research.ibm.com Такое излучение не встречается в природе, его производят с помощью мощного лазера, который воздействует на капли олова и создаёт плазму. research.ibm.com
Процесс работы EUV-литографии включает несколько этапов: www.zeiss.com
- Генерация EUV-света. www.zeiss.com Лазерный луч в вакууме попадает на каплю олова, из-за чего она расширяется. www.zeiss.com Затем последующий основной импульс нагревает олово до 200 000 °C, превращая его в горячую плазму. www.zeiss.com
- Сбор EUV-света. research.ibm.com С помощью ультраплоских зеркал EUV-свет собирают и направляют на маску с желаемым дизайном. research.ibm.com
- Создание изображения. research.ibm.com Свет с изображением маски попадает на поверхность пластин, покрытых фоточувствительным химическим веществом, и создаёт на них рисунок. research.ibm.com
- Химическая фиксация и удаление незасвеченных участков. www.zeiss.com Этот процесс повторяют до сотни раз с разными масками, постепенно создавая всё более сложную трёхмерную структуру из крошечных электрических компонентов, таких как транзисторы и проводящие дорожки. www.zeiss.com
Для EUV-литографии требуется вакуум, так как EUV-излучение поглощается воздухом и стеклом. www.zeiss.com ru.wikipedia.org