Как происходит процесс искусственного создания ионных повреждений в минералах?

Процесс искусственного создания ионных повреждений в минералах происходит с помощью ионной имплантации — ионно-лучевой обработки поверхности вещества потоком высокоэнергетичных ионов различных химических элементов. cyberleninka.ru elar.urfu.ru

Процесс включает несколько этапов: cyberleninka.ru

1. Внедрение ионов. bsu.by Ионы взаимодействуют с атомами минерала, при этом движущиеся атомы теряют энергию, а атомы матрицы — приобретают. bsu.by
2. Торможение ионов. bsu.by dspace.kpfu.ru В твёрдом теле ионы замедляются, что порождает каскад выбитых или смещённых атомов подложки. dspace.kpfu.ru
3. Структурная аморфизация. cyberleninka.ru dspace.kpfu.ru При высоких значениях дозы облучения и низкой плотности ионного тока происходит полная структурная аморфизация приповерхностного слоя образца. cyberleninka.ru dspace.kpfu.ru
4. Постимплантационная термическая обработка. cyberleninka.ru dspace.kpfu.ru Её проводят для отжига радиационных дефектов, рекристаллизации структуры и разгона внедрённой примеси по кристаллу. cyberleninka.ru dspace.kpfu.ru

В зависимости от величины дозы имплантации и режимов термического отжига внедрённые в кристалл ионы металлов могут находиться в различном зарядовом состоянии и замещать атомы исходной кристаллической матрицы в различных структурных позициях. cyberleninka.ru