Чем отличаются позитивные и негативные фоторезисты при проявлении после экспонирования?

Позитивные и негативные фоторезисты отличаются поведением при проявлении после экспонирования: nipg.ru ru.ruwiki.ru

Позитивные фоторезисты передают рисунок фотошаблона, то есть рельеф повторяет конфигурации непрозрачных элементов шаблона. nipg.ru При обработке в соответствующих растворах экспонированные участки слоя разрушаются (вымываются). nipg.ru Такие фоторезисты, как правило, позволяют получать более высокие разрешения, чем негативные, но стоят дороже. ru.ruwiki.ru

Негативные фоторезисты под действием излучения образуют защитные участки рельефа. nipg.ru Освещённые участки перестают растворяться и остаются на поверхности подложки. nipg.ru При этом рельеф представляет негативное изображение элементов фотошаблона: под непрозрачными участками фотошаблона фоторезист после обработки в растворителях удаляется, под прозрачными остаются участки, защищающие в дальнейшем от травления. nipg.ru Негативные фоторезисты, как правило, обладают более высокой адгезией по сравнению с позитивными, и более устойчивы к травлению. ru.ruwiki.ru